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英文:multiarc ion plating / 中文:多弧离子镀
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  把真空弧光放电用于蒸发源的一种离子镀。在蒸镀时，由于放电，阴极表面上出现许多非常小的弧光辉点，故称多弧离子镀。其特点是不用熔池，不用特殊气体(阴极本身作为蒸发源，也作为离化源)，蒸发速率高，膜层附着牢固。为了控制弧光辉点，也可以附加磁场。

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