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英文:pulse laser deposition / 中文:脉冲激光沉积
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  利用脉冲激光轰击靶材，使靶材局部蒸发而沉积到附近的加热基片上，从而形成薄膜的过程。它在制备液氮温区氧化物陶瓷超导薄膜方面具有较高的氧分压(10- 1 Pa) 、较低的基片温度(450~650·C) 和薄膜成分易控制等优点。

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